RTP快速退火炉对KNN薄膜中晶化退火的应用
图1(a-d)是薄膜的横截面图像。(e-h)是薄膜表面的俯视图图像
图2 KNN-Ox和KNN-MA薄膜经过550℃和700℃退火的GI-XRD图谱
√ 快速升降温和气氛控制,提供了适宜的反应条件,有利于铁电相的生成,减少副产物和避免晶粒过大;
√ 气氛控制下的精准控温能够促进铁电材料的结晶和相转变,获得更加相纯的铁电材料,提高铁电性能;
√ 退火工艺控制可以控制铁电薄膜的纹理和微观结构,获得垂直的铁电相,即特定方向上的铁电性。
此外,嘉仪通快速退火炉(RTP,Rapid Thermal Processing)产品,采用红外辐射加热及冷壁技术,可实现对薄膜材料的快速升温和降温,同时搭配超高精度的温度控制系统,可达到极佳的温场均匀性和稳定性。
嘉仪通()快速退火炉系列可处理1-12吋样品,对材料的快速热处理、快速热退火、快速热氧化、快速热氮化及金属合金化等研究和生产起到重要作用。
参考文献:
[1]Koruza J, Liu H, H?fling M, et al. (K, Na) NbO3-based piezoelectric single crystals: Growth methods, properties, and applications[J]. Journal of Materials Research, 2020, 35(8): 990-1016.
[2]Helth Gauk?s N, Dale S M, R?der T M, et al. Controlling phase purity and texture of K0. 5Na0. 5NbO3 thin films by aqueous chemical solution deposition[J]. Materials, 2019, 12(13): 2042.
[3]Yu Q, Li J F, Chen Y, et al. Effect of Pyrolysis Temperature on Sol–Gel Synthesis of Lead‐free Piezoelectric (K, Na) NbO 3 Films on Nb: SrTiO 3 Substrates[J]. Journal of the American Ceramic Society, 2014, 97(1): 107-113.
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