RTP快速退火炉的合金化在GaN基HEMT传感器中的应用
图1 气体传感器的应用示意图及HEMT器件的结构图和实物图
图2 在120℃和200℃下HEMT对H2和NH3的响应程度
图3 HEMT传感器对1-100 ppmNH3的响应及在半年内对100ppm的持续记录
√ 快速升温的高温场能够促进金属层的热扩散,获得更低的接触电阻,形成欧姆接触;
√ 精准控温能够提高欧姆接触的稳定性,具有高重复性、高稳定性的欧姆接触。
√ 气氛填充有助于避免金属电极的高温氧化,降低表面电阻率,或者不同流速的调控可以对反应速率进行细微控制。
参考文献:
[1]Fauzi N, Mohd Asri R I, Mohamed Omar M F, et al. Status and Prospects of Heterojunction-Based HEMT for Next-Generation Biosensors[J]. Micromachines, 2023, 14(2): 325.
[2]朱彦旭, 王岳华, 宋会会, 等. 基于 GaN 基 HEMT 结构的传感器件研究进展[J]. 发光学报, 2016, 37(12): 1545-1553.
[3]Su H, Wang Y, Xu F, et al. Dual-gas sensor based on the Pt NPs/AlGaN/GaN high electron mobility transistor for H 2 and NH 3 gases detection[J]. IEEE Sensors Journal, 2023.
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