祝贺第九届中国二次离子质谱会议圆满举办-医疗器械网

祝贺第九届中国二次离子质谱会议圆满举办

来源：高德英特（北京）科技有限公司分类：动态 2023-10-23 15:39:42 7阅读次数

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2023年10月11日至15日，第九届中国二次离子质谱会议在辽宁省沈阳市圆满举办，PHI CHINA在此表示热烈祝贺。

在这个充满创意与探索的盛会上，来自全球各地的科学家们齐聚一堂，汇聚了无数智慧的火花。他们用独特的视角和精湛的技术，揭示了二次离子质谱在科学领域的无限可能。

这场盛会不仅仅是一个学术交流的平台，更是一次创意的碰撞和思想的碰撞。在会议期间，各位专家学者们分享了最新的研究成果和科技创新，探讨了二次离子质谱在环境科学、生命科学、材料科学等领域的广泛应用。

这次会议邀请了国内外知名专家进行主题演讲，分享他们在二次离子质谱领域的研究心得和经验。

会议主题包括：

1. 二次离子质谱前沿技术与数据方法；

2. 半导体/微电子分析技术；

3. 地质学微区分析和同位素分析；

4. 材料冶金微区分析、表面分析和3D分析；

5. 生命医学有机分析与质谱成像分析；

6. 能源环境微区和原位分析。

PHI CHINA与ULVAC- PHI受邀参与了本次会议，同时日本分析实验室的高级首席科学家Shinichi Iida做了题为“PHI’s Latest TOF-SIMS Instrument PHI nanoTOF3+ and its Applications”的报告，与诸位学者分享了ULVAC- PHI最新TOF-SIMS的进展。

Shinichi Iida报告

与会人员合影

飞行时间二次离子质谱(TOF SIMS)作为重要的的表面分析技术，可以对样品表面的元素组成和分子结构进行痕量定性分析，具有优异的检测灵敏度，以及极佳的质量分辨率和空间分辨率，是一种能够在微米-纳米级尺度上研究样品表面化学组成的分析利器，目前已经广泛应用于科学研究和工业生产中。

PHI nanoTOF3+

ULVAC-PHI公司是TOF SIMS技术的全球领先供应商之一，在仪器设备的研发和制造方面具有丰富的经验和专业知识。我们的TOF-SIMS具有高分辨率、高灵敏度和高速度的特点，广泛应用于材料科学、生命科学、电子工业等领域。通过海报展示及技术人员的现场讲解，与会者有机会认识到ULVAC-PHI公司的TOF-SIMS仪器，并了解其在不同领域的应用案例和技术优势。

通过本次会议，我们希望能够促进TOF-SIMS技术的交流与合作，推动其在科学研究和工业应用中的进一步发展。我们相信，TOF-SIMS技术的广泛应用将为科学界带来更多的突破和创新，为社会的发展做出更大的贡献。

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