大尺寸多温区真空管式炉
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此设备是为高等院校,科研院所及工矿企业对金属、非金属及其它化合物材料在真空或者气氛状态下进行烧结、融化、分析而研制的专用设备,
它采用PLC控制,触摸屏操作,您只需通过轻轻点击触摸屏即可完成所有的参数设定,也可满足各类CVD工艺的需求。
1、真空、气氛烧结均可。
2、控制稳定可靠,操作方便,安全防护措施完善。
3、采用先进的PID自学习模糊控制,控温精度高,保持在±1℃。
4、炉衬采用高纯氧化铝轻质纤维材料,保温效果更好,节能降耗。
5、具有物联网功能(WIFI),可通过手机、电脑远程对设备进行监控,操作。
6、数据存储功能,可保存烧结的重要参数,时长达30天之久(每天开机8小时),配方功能,可预存配方20条。
7、联网功能,通过RJ45接口,采用TCP/IP协议,可以让系统与上位机相连(上位机需安装相应软件)。
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